等離子除臭設(shè)備
等離子除臭設(shè)備處理臭味及揮發(fā)性有機物的主要過程是：將廢氣引入凈化區(qū)的同時，電器控制元件通過微波傳輸在凈化區(qū)放電，使氣體電離，在凈化區(qū)內(nèi)產(chǎn)生大量等離子體。因此，等離子除臭設(shè)備主要由兩大部分組成：
1）電器控制部分 由大規(guī)模集成電路、集成模塊、半導(dǎo)體元器件組成，產(chǎn)生加速，發(fā)射，調(diào)控，自動保護(hù)電路。
2）凈化區(qū)部分 由極棒、鉬絲及附件組成等離子方陣構(gòu)成諧振區(qū)，分解區(qū)，氧化區(qū)，收集區(qū)。裝置由不銹鋼材、銅材、鉬材、環(huán)氧樹脂等加工而成。
一、主要技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)：
使用電壓：220V；
工作電壓：80V—250V；
工作頻率：30GHZ—300GHZ；
耗 電 量：處理1000m3/h,耗電0.25千瓦；
工作溫度：250℃以下，-50℃以上；
環(huán)境溫度：-50℃～50℃；
工作濕度：適應(yīng)飽和水霧環(huán)境；
凈 化 率：75-95%（不同成分的氣體去除率有所不同）；
滅 菌 率：100％；
規(guī) 格：1800mm×500mm×3300mm；或根據(jù)處理的氣量、濃度及場地情況設(shè)計。
二、去除原理
等離子體是物質(zhì)存在的第四形態(tài)。它是由電子、離子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成。等離子體是電離度大于0.1%，且其正負(fù)電荷相等的電離氣體。電子和正離子的電荷數(shù)相等,整體表現(xiàn)出電中性。
等離子體凈化技術(shù)的主要機理是：在外加電場的作用下，電極空間里的電子獲得能量后加速運動，以每秒鐘300萬次至3000萬次的速度去撞擊異味氣體分子，當(dāng)電子的能量與異味氣體分子的某一化學(xué)鍵鍵能相同或略大時，發(fā)生非彈性碰撞，電子將大部分動能轉(zhuǎn)化為污染物分子的內(nèi)能，從而引發(fā)了使其發(fā)生激發(fā)、離解或電離等一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，使得產(chǎn)生臭味的基團(tuán)化學(xué)鍵斷裂，再經(jīng)過多級凈化而達(dá)到除臭目的。
其主要過程可通過以下反應(yīng)式表達(dá)：（XY-污染物分子，e-電子）
1）激 發(fā)： e XY —— XY* e
2）中性離解： e XY —— X Y e
3）直接離子化：e XY —— XY2e
4）離子化離解：e XY —— X Y2e，Y X 2e
5）形成負(fù)離子：e XY —— XY- （電子吸附）
e XY —— XY- （離解吸附）
中性離解和離子化離解產(chǎn)生大量帶有未成對電子的中性基團(tuán)，使等離子體具有活潑的化學(xué)反應(yīng)性。
